ZEELAPP Nano Diamond Slurry – นวัตกรรมการขัดละเอียดระดับนาโน เพื่อผิวงานที่สมบูรณ์แบบ

Nano Diamond Slurry Polishing

Nano diamond slurry polishing is the pinnacle of precision surface finishing. By suspending ultra-fine synthetic diamond particles (2–8 nm) in a stable carrier fluid, this advanced slurry combines mechanical abrasion and surface chemistry to deliver nanometer-smooth results with minimal scratching or subsurface damage.

🧬 Composition & Mechanism

Diamond Abrasives (2–8 nm):
- Uniform, synthetic nano-diamonds for ultra-fine material removal.
Carrier Fluid:
- High-purity water-based or oil-based solvent ensuring even particle dispersion and optimal lubrication.
Polishing Action:
- Mechanical abrasion by diamond grit
- Optional mild chemical interaction to soften surface oxides and improve removal uniformity

✨ Key Benefits

Sub-Nanometer Surface Finish
- Achieve surface roughness (Ra) down to 0.1 nm, ideal for cutting-edge semiconductors and optical components.
Minimal Defects
- Extremely low scratch density and no embedded contaminants.
High Throughput
- Efficient removal rates while maintaining tight planarity tolerances.
Versatile Material Compatibility
- Silicon, sapphire, zinc selenide, glass, ceramics, and hard disk substrates.
Stable Shelf Life & Reproducibility
- Rigorous quality control of particle size distribution, zeta potential, and viscosity.

🎯 Applications

Semiconductor Industry:
Polishing silicon, SiC, GaN, and compound-semiconductor wafers for multi-layer interconnects.
Optics & Photonics:
Lapping and polishing of lenses, prisms, windows, and laser crystals.
Hard Disk Manufacturing:
Finishing of magnetic heads and platters to sub-nanometer smoothness.
Sapphire & Specialty Substrates:
Planarization of LED and MEMS substrates, IR windows, and quantum-grade materials.

🔧 Usage Guidelines

Pad Selection:
Use polyurethane or microfiber pads compatible with water/oil carriers.
Slurry Application:
Dispense 1–2 mL per cm² of pad surface; reapply periodically to maintain uniform coverage.
Process Parameters:
- Pressure: 1–3 psi (0.07–0.21 MPa)
- Rotation Speed: 100–200 rpm
- Flow Rate: 100–300 mL/min (water-based); adjust for oil-based as recommended
Post-Polish Cleaning:
Immediate DI-water or solvent rinse and ultrasonic bath to remove residual particles.

📦 Packaging & Customization

Standard Packs: 50 mL, 100 mL, 500 mL bottles
Custom Formulations: Tailored carriers, particle concentrations, and additive packages
Lead Time: In-stock options for fast delivery; custom orders within 2–3 weeks

📞 Contact Us

Ready to unlock ultra-smooth surfaces? Reach out to W-Tech Thailand’s technical team for samples, datasheets, and pricing:

Elevate your polishing process with our Nano Diamond Slurry—where nano-precision meets unmatched reliability.

ZEELAPP Nano Diamond Slurry Polishing คือสารขัดผงเพชรนาโนรุ่นใหม่ล่าสุดที่พัฒนาขึ้นเพื่อตอบโจทย์การขัดผิวระดับอัลตร้าละเอียด ด้วยสูตรเฉพาะที่ช่วยให้ได้ ผิวงานเรียบเนียน ไร้รอยขีดข่วน และมีความเงางามสูง เหมาะสำหรับงานขัดที่ต้องการความแม่นยำและคุณภาพสูงสุด

ผลิตภัณฑ์นี้มาในรูปแบบ DND (Detonation Nanodiamond) Powder ซึ่งมีอนุภาคขนาดนาโน และสามารถละลายได้ทั้งใน น้ำและน้ำมัน ทำให้ใช้งานได้สะดวกและยืดหยุ่นในหลากหลายระบบการขัด

✨ จุดเด่นของ ZEELAPP Nano Diamond Slurry

✅ พื้นผิวเรียบเนียนระดับนาโน – ให้ผลงานที่ไร้รอยตำหนิและความเงาสูง
✅ ลดรอยขีดข่วนและข้อบกพร่อง – เหมาะสำหรับวัสดุที่ต้องการความสมบูรณ์แบบ
✅ อนุภาคนาโนแท้ (DND Powder) – ขนาดเล็ก กระจายตัวดี ให้ผลการขัดที่ละเอียดสม่ำเสมอ
✅ ละลายได้ทั้งในน้ำและน้ำมัน – รองรับทุกกระบวนการ ไม่ว่าจะเป็นแบบเปียกหรือน้ำมัน
✅ ใช้งานง่าย – ผสมเข้ากระบวนการขัดได้ทันที ไม่ต้องเตรียมสารเพิ่มเติม

🏭 การใช้งานที่แนะนำ

ขัดวัสดุแสง (Optical Materials) เช่น เลนส์ กล้องจุลทรรศน์ เลนส์เลเซอร์
ขัดคริสตัล อัญมณี และชิ้นส่วนตกแต่งที่ต้องการความใส
ขัดแผ่นเวเฟอร์ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
ชิ้นงานโลหะขั้นสูง หรือพื้นผิวที่ต้องการเตรียมก่อนการเคลือบระดับนาโน